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【环球时报特约记者 文简】针对荷兰6日宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制,中国商务部新闻发言人8日表示,荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。 荷兰半导体设备制造商阿斯麦日前表示,荷兰政府此次管制适用于其NXT:1970i和1980i 浸润式DUV(深紫外)光刻系统。美媒称,在荷兰宣布新决定的前一天,美国公布更新的出口规则,收紧对量子计算和半导体制造设备等关键技术的出口管制。荷兰更新的相关条款中采用了美国的措辞。在美国的压力下,荷兰政府